URP에서의 마스크

업데이트： 2026/01/08

이 페이지에는 베타 버전에 관한 설명이 포함되어 있습니다.

Cubism 5 SDK for Unity R5 beta3에서는 렌더링 파이프라인이 Universal Rendering Pipeline(이하 URP)으로 마이그레이션됨에 따라 마스크 기능의 구조가 변경되었습니다.

R4_1로부터의 변경점

• 모든 모델이 고선명 마스크 방식을 이용합니다.
• 지금까지 이용하던 Assets/Live2D/Cubism/Rendering/Masking을 비롯한 마스크용 컴포넌트는 이용되지 않게 되어 퍼포먼스의 관점에서 삭제되었습니다.
  • R4_1에서 업데이트하는 경우 삭제하지 않는 한 구성 요소는 프로젝트에 남아 있지만 각 구성 요소는 모델에서 더 이상 사용되지 않습니다. 또한 CubismMaskController 구성 요소는 MonoBehaviour이므로 처리를 중지하려면 모델의 프리팹에서 명시적으로 제거해야 합니다.
  • 삭제되는 구성 요소의 위치 및 마이그레이션 방법에 대한 자세한 내용은 「Built-in Render Pipeline에서 URP로 마이그레이션」을 확인하십시오.

고선명 마스크 방식

고선명 마스크 방식은 그리기 오브젝트를 그리기 직전에 매번 해당 그리기 오브젝트가 이용하는 마스크의 그리기 처리를 실시하는 방식입니다.

퍼포먼스보다 그리기 퀄리티를 중시한 방식으로 R4_1 이전의 마스크 방식과 비교해 아래와 같은 이점이 있습니다.

• 마스크 사용 수의 상한이 무제한이 된다.
• 마스크용 텍스쳐는 화면 해상도 중 하나만을 이용하기 때문에 메모리 사용량이 저하된다.
• 마스크는 분할되지 않고 1장의 텍스쳐에 차례로 그려지기 때문에 마스크 그리기의 퀄리티가 향상된다.

단, 아래와 같은 단점이 있습니다.

• 동일한 아트메쉬가 마스크에 설정된 경우에도 개별 타이밍에 그려진다.
  • 이 영향으로 특히 동일한 아트메쉬를 이용하는 경우의 퍼포먼스가 R4_1 이전의 마스크 방식에 비해 저하됩니다.
• 마스크의 그리기 사이즈가 카메라의 렌더 타겟의 사이즈로 고정되기 때문에 모델을 비추는 렌더 타겟의 사이즈에 따라 퍼포먼스에 대한 영향이 커질 수 있다.

오프스크린 렌더링의 마스크

오프스크린 렌더링에 적용되는 마스크는 셰이더에서의 계산 편의상 아트메쉬를 클리핑 대상으로 하는 경우와 달리 마스크로 설정된 아트메쉬가 화면에서 그려지는 위치와 크기로 그리기 및 적용됩니다.

Cubism 모델이 그려지는 카메라의 RenderTexture가 화면의 해상도와 같고 화면 전체에 표시되는 렌더 타겟이 동일한 경우 필요한 픽셀 수가 확보된 상태(도트 바이 도트)로 렌더링되기 때문에 렌더링 결과가 열화되지 않습니다.